
هوآوی که سال گذشته میلادی از چیپ ۵ نانومتری کرین ۹۰۰۰ پرده برداری کرد، حالا ظاهرا میخواهد نسخه تازهی از آن به نام کرین 9000L را معرفی کند.
کمپانی تکنولوژی چینی هوآوی هنوز در تلاش است تا تجارت مربوط به موبایلهایش را ادامه دهد چرا که آنها قصد ندارند مثل برند آنر، بخش موبایلهای خود را به فروش برسانند. هوآوی به تازگی پرچمدار تازه و تاشو خود یعنی میت ایکس ۲ را روانه بازار کرده و انتظار میرود سری پی ۵۰ را تا ماه آینده ارائه کند.
در رسانههای چینی شایعاتی به گوش میرسد که HiSilicon، کمپانی زیرمجموعه هوآوی که وظیفه ساخت تراشهها را برعهده دارد بهزودی از پلتفرم گوشی کرین 9000L پرده برداری خواهد کرد. پیش از این به این تراشه اشارهای نشده بود و برای نخستین بار در مورد این تراشه میشنویم، اما با توجه به نام آن میتوان متوجه گردید که کرین 9000L طراحی شبیه به کرین 9000E و ۹۰۰۰ دارد و روند ساخت آن متفاوت هست. طبق این شایعات، کرین 9000L با استفاده از لیتوگرافی ۵ نانومتری EUV سامسونگ تولید خواهد شد. کرین 9000L از نظر مشخصات نسبت به دو مدل قبلی که توسط TSMC تولید گردیدهاند، کم قدرتتر خواهد بود.علاوه بر این منبع دیگری درباره مشخصات و پیکربندی چیپست کرین 9000L اطلاعاتی عرضه کرده که تفاوت آن با کرین 9000E و 9000 را مشخص میکند. فرکانس هسته اصلی این تراشه تا ۲.۸۶ گیگاهرتز کاهش پیدا میکند، در حالی که این فرکانس در دو مدل دیگر این سری به ۳.۱۳ گیگاهرتز میرسد. پردازشگر گرافیکی این چیپست؛ Mali-G78 با ۱۸ هسته خواهد بود اما GPU دو مدل قبلی به ترتیب از ۲۴ و ۲۲ هسته تشکیل گردیدهاند.ضمنا باید به این نکته اشاره کرد که چیپستهای پرچمدار هوآوی معمولا از NPU اختصاصی برخوردار هستند. کرین 9000L در این زمینه فقط از یک پردازنده مرکزی بزرگ استفاده میکند. در مقابل کرین ۹۰۰۰ دارای دو هسته بزرگ و یک هسته کوچک و کرین 9000E دارای یک هسته بزرگ و یک هسته کوچک هست.هنوز اطلاعات رسمی در مورد چیپست کرین 9000L وجود ندارد، اما ممکن است در مدت زمان کوتاهی شاهد معرفی آن توسط هوآوی باشیم.
ثبت ديدگاه